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【2h】

Stoichiometry control of magnetron sputtered Bi$_2$Sr$_2$Ca$_{1-x}$Y$_x$Cu$_2$O$_y$ (0$\le$x$\le$0.5) thin film, composition spread libraries: Substrate bias and gas density factors

机译:磁控溅射的化学计量控制   Bi $ _2 $ sr $ _2 $ Ca $ _ {1-x} $ Y $ _x $ Cu $ _ $ $ O $ _y $(0 $ \ le $ x $ \ le $ 0.5)薄膜,   成分扩散库:基质偏差和气体密度因子

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著录项

  • 作者单位
  • 年度 2005
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 {"code":"en","name":"English","id":9}
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